DNP ottiene una risoluzione del modello lineare da 10 nm su un modello di nanostampa per semiconduttori all'avanguardia

- Supporta i semiconduttori di generazione da 1,4 nm, riduce i costi di produzione e il consumo energetico -

TOKYO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912) oggi ha annunciato lo sviluppo di un modello di nanolitografia (NIL) con un'ampiezza di linea del circuito pari a 10 nanometri (1 nm = 10^-9 metri). Il nuovo modello consente la realizzazione di modelli di semiconduttori logici equivalenti alla generazione da 1,4 nm e soddisfa i requisiti di miniaturizzazione dei semiconduttori logici all'avanguardia.

Informazioni e obiettivi

In linea con il passaggio a dispositivi più sofisticati visti negli ultimi anni, sono emerse richieste di miniaturizzazione ancora maggiore in semiconduttori all'avanguardia, che hanno portato a progressi nella produzione basata sulla litografia ultravioletta estrema.

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