Kioxia宣布北上市工厂新闪存制造大楼竣工

新行政大楼将于11月投入使用

东京--(BUSINESS WIRE)--(美国商业资讯)-- 内存解决方案领域的全球领导者Kioxia Corporation今天宣布，其行业领先的北上市工厂2号晶圆厂(K2)的大楼施工已于7月完成。K2是日本岩手县北上市工厂的第二处闪存制造设施。随着需求的复苏，公司将逐步开展资本投资，同时密切关注闪存市场趋势。Kioxia计划于2025日历年的秋季启动K2的运营。

此外，一些行政和工程部门将从2024年11月开始迁入毗邻K2的新行政大楼，以监督K2的运营。

根据2024年2月批准的计划，K2的部分投资将由日本政府补贴。

Kioxia以“提升世界的‘记忆’”为使命，致力于抓住闪存市场的机遇，满足对AI应用和数据中心日益增长的需求。Kioxia将继续积极实施相关举措，增强其闪存研发能力，并实施符合市场趋势的敏捷资本投资。

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关于Kioxia

Kioxia是全球存储器解决方案领域的领军企业，致力于闪存和固态硬盘(SSD)的开发、生产和销售。其前身是Toshiba Memory，于2017年4月从Toshiba Corporation（1987年发明了NAND闪存）剥离出来。Kioxia致力于凭借存储器技术促进世界发展，该公司提供各种产品、服务和系统，为客户提供多样化选择，并基于存储器技术创造价值，推动社会的发展。Kioxia创新的3D闪存技术BiCS FLASH™正在塑造存储技术在高密度应用领域（包括高级智能手机、PC、SSD、汽车和数据中心）的未来。

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