DNP entwickelt Fotomaskenverfahren für 3nm-EUV-Lithographie

- Reaktion auf Bedürfnisse des Halbleitermarktes nach Leiterbahnen von immer geringerer Breite -

TOKIO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKIO: 7912) hat erfolgreich eine Herstellungsverfahren für Fotomasken entwickelt, die beim 3-Nanometer (10^-9 m)-Lithographie-Verfahren verwendet werden können. Diese Technik unterstützt die Extrem Ultra-Violett (EUV)-Lithographie, das modernste Verfahren zur Herstellung von Halbleitern.

[Hintergrund]

DNP ist stets den Anforderungen der Halbleiterhersteller in Bezug auf Leistung und Qualität nachgekommen. Im Jahr 2016 führte DNP als erster Fotomaskenhersteller und -händler der Welt das MBMW (Multi-Beam Mask Writing)-Tool ein. Im Jahr 2020 entwickelte DNP ein Verfahren zur Herstellung von Fotomasken für 5nm-EUV-Lithographie-Prozesse . Seitdem beliefert das Unternehmen den Halbleitermarkt mit Masken, die den Anforderungen der Branche entsprechen. Angesichts des Bedarfs an weiterer Miniaturisierung hat DNP eine Fotomaske für die EUV-Lithographie im Rahmen dieser jüngsten Entwicklung erstellt, die 3nm-Verfahren unterstützen kann.

[Zusammenfassung]

• Das 2016 von DNP eingeführte MBMW-Tool ermöglicht eine Bestrahlung mit rund 260.000 Elektronenstrahlen und kann so die Lithographiezeit auch bei komplexen Musterformen erheblich verkürzen. In diesem Fall hat DNP den Herstellungsprozess durch Nutzung der Eigenschaften der Anlage verbessert und gleichzeitig die Datenkorrekturtechnologie und die Verarbeitungsbedingungen so optimiert, dass sie der komplexen gekrümmten Musterstruktur der Fotomaske für die EUV-Lithographie entsprechen.
• DNP hat ein neues MBMW-Tool installiert und plant die Aufnahme des Betriebs in der zweiten Hälfte des Jahres 2024. Darüber hinaus unterstützt DNP verstärkt die Halbleiterherstellung in hochmodernen Bereichen wie beispielsweise Fotomasken für die EUV-Lithographie.
• DNP wird gemeinsam mit dem Interuniversity Microelectronics Center (imec), einer internationalen Spitzenforschungseinrichtung mit Sitz in Belgien, die Entwicklung von EUV-Fotomasken für die nächste Generation von EUV-Belichtungsanlagen vorantreiben.

[Zukünftige Entwicklung]

DNP wird Halbleiterhersteller auf der ganzen Welt mit der neu entwickelten Fotomaske für die 3nm-EUV-Lithographie beliefern. Darüber hinaus wird DNP auch die Entwicklung von Peripherie-Technologien für die EUV-Lithographie unterstützen. Dabei strebt das Unternehmen einen Jahresumsatz von 10 Milliarden Yen für 2030 an.

In Zusammenarbeit mit Partnern wie imec wird DNP die Entwicklung hochmoderner Fotomasken weiter vorantreiben, die Verfahren mit einer Feinheit von weniger als 3 nm und sogar weniger als 2 nm unterstützen.

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Über DNP

DNP wurde 1876 gegründet und ist heute ein führendes, weltweit agierendes Unternehmen, das druckbasierte Lösungen und die Stärken seiner wachsenden Zahl an Partnern nutzt, um neue Geschäftschancen zu entwickeln. Gleichzeitig engagiert sich das Unternehmen für den Umweltschutz und eine lebendigere Welt für alle. Unter Nutzung unserer Kernkompetenzen in der Mikrofertigung und der Präzisionsbeschichtungstechnologie stellen wir Produkte für die Bereiche Displays, elektronische Geräte und optische Folien her. Außerdem haben wir neue Produkte wie beispielsweise die Dampfkammer und das Reflect Array entwickelt, die Kommunikationslösungen der nächsten Generation für eine menschenfreundlichere Informationsgesellschaft bieten.

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