DNP ontwikkelt fotomaskerproces voor 3nm EUV-lithografie

- Als antwoord op de behoeften van de halfgeleidermarkt waar de lijnbreedten van circuits steeds fijner worden -

TOKYO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKYO: 7912) heeft met succes een productieproces voor fotomaskers ontwikkeld dat geschikt is voor het 3-nanometer (10^-9 meter) lithografieproces dat compatibel is met Extreme Ultraviolet (EUV) lithografie, een geavanceerde techniek voor de productie van halfgeleiders.

[Geschiedenis]

DNP heeft voortdurend ingespeeld op de eisen van halfgeleiderfabrikanten op het gebied van prestaties en kwaliteit. In 2016 werden we 's werelds eerste fabrikant van commerciële fotomaskers die de multi-beam mask writing tool (MBMW) introduceerde. In 2020 ontwikkelden we een productieproces voor fotomaskers voor 5nm EUV-lithografieprocessen dat ons in staat stelt maskers te leveren die voldoen aan de behoeften van de halfgeleidermarkt.

Deze bekendmaking is officieel geldend in de originele brontaal. Vertalingen zijn slechts als leeshulp bedoeld en moeten worden vergeleken met de tekst in de brontaal, die als enige rechtsgeldig is.