-

DNP开发出用于下一代半导体封装的主要部件——转接板

东京--(BUSINESS WIRE)--(美国商业资讯)-- (美国商业资讯)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912)开发出一种转接板,这是一种将多个芯片和基板进行电气连接的高性能中间器件,有望在下一代半导体封装中发挥关键作用。

DNP还加入了Jisso Open Innovation of Tops 2 (JOINT2),目标是为2024年的量产进行进一步的功能开发。JOINT2是一个由12家从事半导体封装材料、基板和设备开发的公司所组成的联合体。Showa Denko Materials Co., Ltd.是该联合体的管理公司,被新能源和工业技术开发组织(NEDO)选入后5G信息通信系统增强型基础设施的研发项目。

DNP研究与业务开发中心的 Ryoichi Ohigashi表示:“通过与其他参与JOINT2的公司合作,DNP将加速转接板具体功能的进一步研发,并推进旨在2024年实现量产的举措。我们还将推进下一代半导体封装技术的开发。”

背景

半导体产品向更高功能、更快速度和更低功耗的转变,需要通过使用光刻技术来实现半导体的微型化技术。然而,由于工艺的复杂性和高成本,进一步的微型化据称正在迅速接近极限。为了克服这些挑战,需要以下一代半导体封装技术为重点,该技术通过在转接板表面以高密度安装多个芯片(例如CPU、AI处理器和存储器)来提高处理速度。

特性

该转接板克服了布线电阻增加和布线之间绝缘电阻下降的问题,可实现前沿半导体封装所需要的高性能。

DNP制造用于纳米压印光刻的模板,这是一种下一代图案转移技术,采用基于印刷工艺的微细加工技术。我们还通过传感器的MEMS代工服务广泛地拓展业务。在这次开发过程中,我们将通过上述业务所开发的玻璃和硅基板加工应用于先进的封装技术,同时还应用了处理技术和精细布线形成技术。

关于DNP

自1876年以来,DNP一直是连接个人与社会的打印解决方案的全球领导者,致力于提供新的价值。我们利用自身在印刷和信息方面的专有优势,提出支持发展以人为本的信息社会的解决方案,包括面向下一代通信的电子元件,以及促进物联网信息安全的平台。

https://www.dnp.co.jp/eng/news/detail/10161795_2453.html

免责声明:本公告之原文版本乃官方授权版本。译文仅供方便了解之用,烦请参照原文,原文版本乃唯一具法律效力之版本。

Contacts

DNP: Yusuke Kitagawa, 81-3-6735-0101
kitagawa-y3@mail.dnp.co.jp

Dai Nippon Printing Co., Ltd.

TOKYO:7912


Contacts

DNP: Yusuke Kitagawa, 81-3-6735-0101
kitagawa-y3@mail.dnp.co.jp

More News From Dai Nippon Printing Co., Ltd.

DNP投资Rapidus,支持下一代半导体量产体系建设

东京--(BUSINESS WIRE)--(美国商业资讯)-- Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912)今日宣布,公司作为投资方之一参与了Rapidus Corporation的融资轮。本次战略性融资将支持Rapidus从当前研发阶段稳步迈向2027年实现2纳米(10⁻⁹米)逻辑半导体量产的计划。 通过本次融资,DNP将加快极紫外光刻光掩模的开发和量产,为Rapidus搭建2纳米及下一代半导体量产体系提供支持。 背景 近年来,随着数据生成量增长带来的能耗上升已成为一项挑战,市场对能够提升设备性能和降低功耗的下一代半导体需求持续增长。 与现有技术相比,采用极紫外光刻技术制造的下一代半导体可在硅片上形成更精细的电路图案。这反过来又提高了人们对实现更高性能、更低功耗半导体的期望。 在此背景下,DNP于2024年在日本新能源产业技术综合开发机构(NEDO)主导的“后5G信息和通信系统基础设施强化研发项目”中被选定为Rapidus的子承包商。依托该项目,DNP持续推进2纳米世代极紫外光刻光掩模制造工艺的开发。 展望未来,为助力Rapidus在...

DNP在用于尖端半导体的纳米压印模板上实现了10纳米线图案分辨率

东京--(BUSINESS WIRE)--(美国商业资讯)-- Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912)今日宣布,已成功研发出电路线宽为10纳米(nm,10-9米)的纳米压印光刻(NIL)模板。这款新型模板可实现性能对标1.4纳米制程的逻辑半导体的图案化,满足了尖端逻辑半导体的微型化需求。 研发背景与目标 近年来,随着器件精密度的提升,市场对尖端半导体微型化的需求日益增长,这也推动了基于极紫外(EUV)光刻技术的生产进步。然而,EUV光刻技术在生产线建设和曝光工艺方面需要大量的资本投入,且能耗与运行成本居高不下。 DNP自2003年起便致力于NIL模板的研发工作,在高精度图案化领域成功积累了丰富的技术经验。 在此项最新进展中,DNP研发了一种具有10纳米线图案的NIL模板。它可以替代部分EUV光刻工艺,从而帮助那些不具备EUV光刻生产工艺的客户生产尖端逻辑半导体。 主要特性 DNP利用自对准双重图案化(SADP)技术,成功实现了电路线宽为10纳米的新型NIL模板的研发。该技术通过对光刻设备形成的图案进行薄膜沉积和蚀刻处理,使图案密度...

DNP将在荷兰开设首个海外研发中心

东京--(BUSINESS WIRE)--(美国商业资讯)-- Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912)将于2025年9月在荷兰开设其首个海外研发中心。这一新的研发中心位于埃因霍温高科技园区(HTCE),旨在推动全球研发合作并加速创新进程。 HTCE是欧洲领先的创新枢纽之一,约有300家企业和研究机构、超过12,500名研究人员、工程师及企业家汇聚于此,共同开发创新技术与产品。 作为初期项目,DNP将重点推进共封装光学技术(Co-Packaged Optics)的研发。该技术通过整合光通信技术与电子技术,可实现高性能信息处理,作为下一代半导体技术备受关注。 2025年7月,DNP已与荷兰应用科学研究组织(TNO)签署共封装光学技术联合研发协议。相关研发活动将与园区内的光子集成技术中心(PITC)协同推进——该研究机构致力于将基础研究与光子芯片(光学集成电路芯片)的量产相衔接。 [研发内容与目标] 共封装光学技术具备高信息处理性能、低功耗及节能特性,有望应用于下一代半导体领域。 为加速共封装光学技术封装组件的开发,DNP将与PITC...
Back to Newsroom