ギガフォトン、先端材料向けパルスレーザ成膜用エキシマレーザ「L300KZ」の評価を開始

ムーンショット型研究開発制度におけるフュージョンエネルギー実現を支える高温超伝導線材の量産技術確立に向けた取り組みを加速

栃木県小山市--(BUSINESS WIRE)--（ビジネスワイヤ） -- 半導体リソグラフィ用光源メーカーであるギガフォトン株式会社（本社：栃木県小山市、代表取締役社長：榎波龍雄、以下「当社」）は、内閣府が所管する「ムーンショット型研究開発制度」の目標10において開発を進めているPLD（Pulsed Laser Deposition：パルスレーザ成膜）用KrFエキシマレーザ「L300KZ」を、2026年9月25日に国内高温超伝導線材メーカーへ設置し、高温超伝導線材の製造プロセスへの適用に向けた評価を開始しました。

当社は、ムーンショット目標10の研究開発プロジェクト「多様な革新的炉概念を実現する超伝導基盤技術」(グラント番号：JPMJMS24A2)の参画機関のひとつです。核融合炉に用いられる超伝導マグネットの重要な構成材料である高性能REBCO線材の高品質・低価格な量産技術の確立に向け、PLDに用いられるエキシマレーザの開発を担当しています。今回設置したL300KZは、半導体露光用エキシマレーザで培った技術を活用して開発した、高温超伝導材料の成膜プロセスに用いられるPLD技術向けの高パルスエネルギーレーザです。

エキシマレーザは、PLDプロセス向け光源の中でも高いパルスエネルギーを有し、高品質な薄膜形成に適した光源として、広く利用されています。当社は、半導体露光用エキシマレーザの開発で培った、安定動作と高い稼働率を支える技術を活用し、将来的なPLDプロセスの生産性や装置稼働率の向上への貢献を目指します。

今回の設置により、実際のPLD成膜プロセス環境で評価を行う段階に移行します。プロジェクト関係機関と連携し、レーザの運転条件と成膜プロセスとの関係を検証することで、高温超伝導線材の品質向上および量産技術の確立に貢献していきます。

ギガフォトン代表取締役社長兼CEOの榎波龍雄氏は、こう述べています。「今回、PLD用エキシマレーザを実際の成膜プロセス環境に設置し、評価を開始できたことは、ギガフォトンにとって重要な一歩です。当社は、高温超伝導線材に加え、機能性薄膜、先端電子材料、光学材料など、PLD技術が活用される幅広い先端材料分野への展開も視野に入れています。今後も関係機関との連携を通じて、高温超伝導線材の量産技術確立に貢献するとともに、先端材料分野における新たな価値創出に取り組んでまいります。」

*REBCO: Rare Earth-Barium-Copper-Oxide、希土類系銅酸化物高温超伝導材料の略称。液体窒素温度（-196℃）以下で超伝導状態（電気抵抗ゼロ）となります。