Gigaphoton开发ArF准分子激光器气体回收系统

实现50%的氖气回收率，通过气体减量技术助力稳定供应

日本栃木县小山市--(BUSINESS WIRE)--(美国商业资讯)-- 半导体光刻光源制造商Gigaphoton Inc.（总部：栃木县小山市；总裁兼首席执行官：Tatsuo Enami）宣布，已开发出用于ArF准分子激光器的现场氖气回收系统hTGM for ArF。

ArF光刻在先进半导体的量产中扮演着关键角色。激光的稳定运行以及稀有气体资源的有效利用，是半导体制造商面临的关键挑战。
近年来，受地缘政治风险和全球供应链中断的影响，氖气的供需平衡日益波动。Gigaphoton此前已通过气体减量技术和用于KrF准分子激光器的气体回收系统，支持客户维持稳定生产。此次新发布的hTGM for ArF将这一工作拓展至ArF光刻领域。

hTGM for ArF可在半导体工厂内部收集并回收使用过的气体。单台hTGM for ArF设备每年最多可减少470千升的气体消耗，并可连接最多5台ArF激光器。此外，其在硬件上与hTGM for KrF具有通用性，因此有助于实现高效的生产爬坡。

Gigaphoton总裁兼首席执行官Tatsuo Enami表示：“通过将降低准分子激光器气体消耗的技术与现场气体回收系统相结合，Gigaphoton旨在缓解与稀有气体采购相关的风险、支持客户的稳定运营，并增强半导体行业的供应链韧性。Gigaphoton将继续通过先进的激光技术和环保的解决方案，为全球半导体产业的发展做出贡献。”

关于GIGAPHOTON

GIGAPHOTON成立于2000年，是半导体光刻用KrF和ArF准分子激光光源的领先供应商。GIGAPHOTON通过先进的激光技术，帮助全球半导体制造商实现更高的生产率、更卓越的质量和更可持续的制造。其全球服务网络提供以客户为中心的支持，致力于为全球半导体制造商最大限度地提高设备可用性并保障稳定的生产运行。

依托在激光与光刻技术方面的专长，GIGAPHOTON正将其能力从半导体光刻拓展至新的领域，包括EUV光源，以及用于先进封装和先进材料加工应用的准分子激光器。

如需了解更多信息，请访问https://www.gigaphoton.com

免责声明：本公告之原文版本乃官方授权版本。译文仅供方便了解之用，烦请参照原文，原文版本乃唯一具法律效力之版本。