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DNP acelera el desarrollo del proceso de fabricación de fotomáscara para la litografía EUV de generación de 2nm

- Participe en el proyecto de I+D de NEDO como subcontratista de Rapidus -

original Image of EUV lithography with pellicle, a protective film for the photomask (Photo: Business Wire)

Image of EUV lithography with pellicle, a protective film for the photomask (Photo: Business Wire)

TOKIO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) 7912) ha comenzado el desarrollo de la fabricación de una fotomáscara para los semiconductores lógicos de generación de 2 nanómetros (10-9 metros) que soportan litografía extrema-ultavioleta (Extreme Ultra-Violet, EUV), el proceso de vanguardia para la fabricación de semiconductores.

DNP también actuará como subcontratista y ofrecerá la tecnología de reciente desarrollo a Rapidus Corporation (Rapidus) con sede en Tokio. Rapidus está participando en el Proyecto de Investigación y Desarrollo de Infraestructuras Mejoradas para los Sistemas de Comunicación e Información posteriores a 5G instigados por la Organización para el Desarrollo de Tecnología Industrial y de Nueva Energía (New Energy and Industrial Technology Development Organization, NEDO).

El comunicado en el idioma original es la versión oficial y autorizada del mismo. Esta traducción es solamente un medio de ayuda y deberá ser comparada con el texto en idioma original, que es la única versión del texto que tendrá validez legal.

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Contacto con los medios
DNP: Yusuke Kitagawa, +81-3-6735-0101
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Dai Nippon Printing Co., Ltd.

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