-

DNP acelera el desarrollo del proceso de fabricación de fotomáscara para la litografía EUV de generación de 2nm

- Participe en el proyecto de I+D de NEDO como subcontratista de Rapidus -

original Image of EUV lithography with pellicle, a protective film for the photomask (Photo: Business Wire)

Image of EUV lithography with pellicle, a protective film for the photomask (Photo: Business Wire)

TOKIO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) 7912) ha comenzado el desarrollo de la fabricación de una fotomáscara para los semiconductores lógicos de generación de 2 nanómetros (10-9 metros) que soportan litografía extrema-ultavioleta (Extreme Ultra-Violet, EUV), el proceso de vanguardia para la fabricación de semiconductores.

DNP también actuará como subcontratista y ofrecerá la tecnología de reciente desarrollo a Rapidus Corporation (Rapidus) con sede en Tokio. Rapidus está participando en el Proyecto de Investigación y Desarrollo de Infraestructuras Mejoradas para los Sistemas de Comunicación e Información posteriores a 5G instigados por la Organización para el Desarrollo de Tecnología Industrial y de Nueva Energía (New Energy and Industrial Technology Development Organization, NEDO).

El comunicado en el idioma original es la versión oficial y autorizada del mismo. Esta traducción es solamente un medio de ayuda y deberá ser comparada con el texto en idioma original, que es la única versión del texto que tendrá validez legal.

Contacts

Contacto con los medios
DNP: Yusuke Kitagawa, +81-3-6735-0101
kitagawa-y3@mail.dnp.co.jp

Industry:

Dai Nippon Printing Co., Ltd.

TOKYO:7912
Release Versions
EnglishSpanish (Summary)GermanFrenchItalian (Summary)Dutch (Summary)Chinese TraditionalChinese Simplified

Contacts

Contacto con los medios
DNP: Yusuke Kitagawa, +81-3-6735-0101
kitagawa-y3@mail.dnp.co.jp

More News From Dai Nippon Printing Co., Ltd.

Resumen: DNP logra una resolución de patrón de línea de 10 nanómetros en plantilla de nanoimpresión para semiconductores de última generación

TOKIO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912) anunció hoy el desarrollo de una plantilla de litografía de nanoimpresión (NIL) que incluye una línea de circuitos con una anchura de 10 nanómetros (nm: 10-9 metros). La nueva plantilla permite crear patrones para semiconductores lógicos equivalentes a la generación de 1,4 nm y cumple los requisitos de miniaturización de los semiconductores lógicos de última generación. Antecedentes y objetivos Acompañando la migración haci...

Resumen: DNP inaugura en los Países Bajos su primer centro de I+D en el extranjero

TOKIO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) inaugurará en septiembre de 2025 su primer centro de investigación y desarrollo (I+D) en el extranjero en los Países Bajos. Este nuevo centro de I+D estará ubicado en el High Tech Campus Eindhoven (HTCE), con el objetivo de promover la I+D a nivel mundial, además de acelerar la innovación. El HTCE es uno de los principales centros de innovación de Europa y en el se dan cita unas 300 empresas e institutos de investigación,...

Resumen: DNP anuncia el lanzamiento operativo de una línea de recubrimiento de 2500 mm de ancho para mejorar un 15 % su capacidad de producción

TOKIO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) tiene el agrado de anunciar que durante el mes de septiembre llevará a cabo el lanzamiento operativo de un dispositivo de recubrimiento compatible con película óptica de alta funcionalidad de 2500 mm de ancho en su planta de Mihara, en la prefectura de Hiroshima. El lanzamiento operativo del segundo dispositivo de recubrimiento de superficies anchas es una respuesta a las necesidades del mercado y los consumidores, y aumentará en más d...
Back to Newsroom