-

DNP aumenta il numero di dispositivi ad ampio raggio per rivestimenti ottici a funzionalità elevata presso l'impianto di Mihara

- La decisione è volta ad anticipare le esigenze di mercati e clienti -

original Image of Mihara Plant, where new wide coating device has been added (Graphic: Business Wire)

Image of Mihara Plant, where new wide coating device has been added (Graphic: Business Wire)

TOKYO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) ha aumentato il numero di dispositivi di rivestimento ad ampio raggio idonei per la produzione di film ottici di larghezza massima di 2.500 mm. I dispositivi sono stati aggiunti presso l'impianto di Mihara nella prefettura di Hiroshima sulla scia della continua transizione verso televisori a grande schermo.

Con questa recente iniziativa la capacità produttiva è salita di oltre il 15% in base alla superficie, fattore che incrementerà la produttività di film per televisori da 65 pollici.

Il testo originale del presente annuncio, redatto nella lingua di partenza, è la versione ufficiale che fa fede. Le traduzioni sono offerte unicamente per comodità del lettore e devono rinviare al testo in lingua originale, che è l'unico giuridicamente valido.

Contacts

Referente per i media
DNP: Yusuke Kitagawa, +81-3-6735-0101
kitagawa-y3@mail.dnp.co.jp

Industry:

Dai Nippon Printing Co., Ltd.

TOKYO:7912
Release Versions
EnglishSpanish (Summary)GermanFrenchItalian (Summary)Dutch (Summary)Chinese TraditionalChinese Simplified

Contacts

Referente per i media
DNP: Yusuke Kitagawa, +81-3-6735-0101
kitagawa-y3@mail.dnp.co.jp

More News From Dai Nippon Printing Co., Ltd.

Riassunto: DNP investe in Rapidus per sostenere la creazione della produzione di serie per i semiconduttori di nuova generazione

TOKYO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912) oggi ha annunciato la sua partecipazione al round di finanziamento di Rapidus Corporation come uno degli investitori. Questo finanziamento strategico sostiene il piano di Rapidus di avanzare costantemente dalla sua attuale fase di R&S alla produzione in serie di semiconduttori logici da 2 nanometri (10⁻⁹ metri) entro il 2027. Grazie a questa iniziativa, DNP porterà avanti lo sviluppo e la produzione in serie di fotomasc...

Riassunto: DNP ottiene una risoluzione del modello lineare da 10 nm su un modello di nanostampa per semiconduttori all'avanguardia

TOKYO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912) oggi ha annunciato lo sviluppo di un modello di nanolitografia (NIL) con un'ampiezza di linea del circuito pari a 10 nanometri (1 nm = 10-9 metri). Il nuovo modello consente la realizzazione di modelli di semiconduttori logici equivalenti alla generazione da 1,4 nm e soddisfa i requisiti di miniaturizzazione dei semiconduttori logici all'avanguardia. Informazioni e obiettivi In linea con il passaggio a dispositivi più sofis...

Riassunto: DNP aprirà il primo centro R&S oltreoceano nei Paesi Bassi

TOKYO--(BUSINESS WIRE)--A settembre, Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) aprirà nei Paesi Bassi il suo primo centro di Ricerca e Sviluppo (R&S) oltreoceano, che sarà situato presso l’High Tech Campus Eindhoven (HTCE) e mirerà sia a promuovere la R&S globale sia ad accelerare l’innovazione. HTCE è uno dei principali poli per l’innovazione in Europa, che riunisce circa 300 aziende e istituti di ricerca e oltre 12.500 ricercatori, ingegneri e imprenditori per sviluppare tecnol...
Back to Newsroom