-

DNP desarrolla un marco de plomo para el encapsulado cuádruple sin plomo de semiconductores miniaturizado y altamente confiable

- Verificado el rango más alto de MSL 1 (≤ 30°C/85 % RH ilimitado) -

original Newly developed lead frame (Photo: Business Wire)

Newly developed lead frame (Photo: Business Wire)

TOKIO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co. (DNP, TOKYO: 7912) ha desarrollado una tecnología de fabricación altamente fiable que configura una zona plateada de alta definición para los marcos de plomo que fijan los chips semiconductores y los conecta externamente. Además, la nueva tecnología mejora la adhesividad con una tecnología de rugosidad superficial del más alto nivel industrial que sella la superficie de cobre al compuesto del molde.

Al proporcionar este marco de plomo de alta definición y gran fiabilidad, la intención es ampliar el uso del encapsulado cuádruple sin plomo (QFN) de semiconductores para vehículos.

El comunicado en el idioma original, es la versión oficial y autorizada del mismo. La traducción es solamente un medio de ayuda y deberá ser comparada con el texto en idioma original, que es la única versión del texto que tendrá validez legal.

Contacts

Media contact:
Yusuke Kitagawa, IR and Public Relations Division
+81-3-6735-0101
kitagawa-y3@mail.dnp.co.jp

Industry:

Dai Nippon Printing Co., Ltd

TOKYO:7912
Release Versions
EnglishSpanish (Summary)GermanFrenchItalian (Summary)Dutch (Summary)Chinese TraditionalChinese Simplified

Contacts

Media contact:
Yusuke Kitagawa, IR and Public Relations Division
+81-3-6735-0101
kitagawa-y3@mail.dnp.co.jp

More News From Dai Nippon Printing Co., Ltd

Resumen: DNP logra una resolución de patrón de línea de 10 nanómetros en plantilla de nanoimpresión para semiconductores de última generación

TOKIO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912) anunció hoy el desarrollo de una plantilla de litografía de nanoimpresión (NIL) que incluye una línea de circuitos con una anchura de 10 nanómetros (nm: 10-9 metros). La nueva plantilla permite crear patrones para semiconductores lógicos equivalentes a la generación de 1,4 nm y cumple los requisitos de miniaturización de los semiconductores lógicos de última generación. Antecedentes y objetivos Acompañando la migración haci...

Resumen: DNP inaugura en los Países Bajos su primer centro de I+D en el extranjero

TOKIO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) inaugurará en septiembre de 2025 su primer centro de investigación y desarrollo (I+D) en el extranjero en los Países Bajos. Este nuevo centro de I+D estará ubicado en el High Tech Campus Eindhoven (HTCE), con el objetivo de promover la I+D a nivel mundial, además de acelerar la innovación. El HTCE es uno de los principales centros de innovación de Europa y en el se dan cita unas 300 empresas e institutos de investigación,...

Resumen: DNP anuncia el lanzamiento operativo de una línea de recubrimiento de 2500 mm de ancho para mejorar un 15 % su capacidad de producción

TOKIO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) tiene el agrado de anunciar que durante el mes de septiembre llevará a cabo el lanzamiento operativo de un dispositivo de recubrimiento compatible con película óptica de alta funcionalidad de 2500 mm de ancho en su planta de Mihara, en la prefectura de Hiroshima. El lanzamiento operativo del segundo dispositivo de recubrimiento de superficies anchas es una respuesta a las necesidades del mercado y los consumidores, y aumentará en más d...
Back to Newsroom