-

DNP将在黑崎工厂安装新的大尺寸金属掩膜板生产线

- 旨在提高用于大尺寸OLED屏的金属掩模板产能 -

东京--(BUSINESS WIRE)--(美国商业资讯)-- (美国商业资讯)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912)将在位于北九州市的黑崎工厂安装一条新的大尺寸金属掩模板生产线,用于生产有机发光二极管(OLED)显示屏。公司将为该项目投资约200亿日元(约合1.4亿美元),并将于2024年上半年启动运营。

新产线将生产与第八代玻璃基板兼容的大尺寸金属掩模板,显著提高用于平板电脑和笔记本电脑的OLED显示屏的生产效率。我们位于广岛县的三原工厂也是金属掩膜板的重要生产中心。通过为该工厂提供后备支持,我们旨在加强我们针对业务连续性计划(BCP)的响应。

DNP计划通过设立新的生产线,将其金属掩膜板的产能提高一倍以上。通过利用我们在生产智能手机金属掩模板方面保持全球第一市场份额的优势地位,我们计划将业务进一步扩展到平板电脑和笔记本电脑领域。

[DNP的金属掩膜板计划]

金属掩膜板是一种金属薄片,具有精密排列的微孔,用于将红、绿、蓝三原色的OLED发光材料附着在基板上。

DNP拥有与金属掩膜板相关的材料、制造方法和产品的广泛专利和专有技术。凭借卓越的技术开发,以及安全地提供高质量、高精度产品的能力,我们也在OLED面板制造商中建立了良好的声誉。

如需了解更多信息,请参考:https://www.global.dnp/news/detail/20168536_4126.html

关于DNP

DNP成立于1876年,现已成为一家领先的跨国公司。我们充分利用基于印刷的解决方案和日益增多的合作伙伴的优势来缔造新的商机,同时保护环境以及为所有人创造一个更有活力的世界。凭借我们在微加工和精密涂层技术领域的核心竞争力,我们为显示、电子设备和光学薄膜市场提供各种产品。我们还开发出了均温板(vapor chamber)和反射阵列等新产品,以此提供下一代通信解决方案,推动建设更加以人为本的信息社会。

免责声明:本公告之原文版本乃官方授权版本。译文仅供方便了解之用,烦请参照原文,原文版本乃唯一具法律效力之版本。

Contacts

媒体联系人
DNP:
Yusuke Kitagawa, 81-3-6735-0101
kitagawa-y3@mail.dnp.co.jp

Dai Nippon Printing Co., Ltd.

TOKYO:7912


Contacts

媒体联系人
DNP:
Yusuke Kitagawa, 81-3-6735-0101
kitagawa-y3@mail.dnp.co.jp

More News From Dai Nippon Printing Co., Ltd.

DNP启动汽车显示屏装饰膜量产,兼具高端设计和高可见度显示效果

东京--(BUSINESS WIRE)--(美国商业资讯)-- Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912)宣布,自2026年4月起开始量产一款全新汽车显示屏装饰膜。这款新型装饰膜将木纹图案等高品质设计元素与先进光学性能相结合,仅在需要时才清晰显示图像和图标。 DNP将首先在中国市场推出该新品,未来计划拓展至欧洲、日本、美国、韩国、印度和其他地区。 主要特性 1. 实现清晰生动的图像和文字显示 该新型薄膜采用公司长年研发的微加工技术形成透光层,可让显示屏光线穿透而不受装饰图案干扰,确保图像和文字得到锐利生动的呈现。 通过对装饰设计层和光学功能层的优化,产品可在车内、车外照明条件等多种光照环境下提升可视性。 2. 与现有装饰膜融合,实现统一内饰设计 DNP拥有丰富的汽车内饰装饰膜产品线。通过将其与新款薄膜搭配,汽车厂商可实现显示屏区域乃至整车内饰设计的统一。 3. 高耐刮擦、耐污渍性能,符合汽车行业质量标准 该装饰膜表层采用公司多年来不断完善的专有电子束(EB)技术形成涂层。EB涂层具备出色的耐刮擦、耐污渍和耐环境性能,可满足汽车厂商的品...

DNP投资Rapidus,支持下一代半导体量产体系建设

东京--(BUSINESS WIRE)--(美国商业资讯)-- Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912)今日宣布,公司作为投资方之一参与了Rapidus Corporation的融资轮。本次战略性融资将支持Rapidus从当前研发阶段稳步迈向2027年实现2纳米(10⁻⁹米)逻辑半导体量产的计划。 通过本次融资,DNP将加快极紫外光刻光掩模的开发和量产,为Rapidus搭建2纳米及下一代半导体量产体系提供支持。 背景 近年来,随着数据生成量增长带来的能耗上升已成为一项挑战,市场对能够提升设备性能和降低功耗的下一代半导体需求持续增长。 与现有技术相比,采用极紫外光刻技术制造的下一代半导体可在硅片上形成更精细的电路图案。这反过来又提高了人们对实现更高性能、更低功耗半导体的期望。 在此背景下,DNP于2024年在日本新能源产业技术综合开发机构(NEDO)主导的“后5G信息和通信系统基础设施强化研发项目”中被选定为Rapidus的子承包商。依托该项目,DNP持续推进2纳米世代极紫外光刻光掩模制造工艺的开发。 展望未来,为助力Rapidus在...

DNP在用于尖端半导体的纳米压印模板上实现了10纳米线图案分辨率

东京--(BUSINESS WIRE)--(美国商业资讯)-- Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO:7912)今日宣布,已成功研发出电路线宽为10纳米(nm,10-9米)的纳米压印光刻(NIL)模板。这款新型模板可实现性能对标1.4纳米制程的逻辑半导体的图案化,满足了尖端逻辑半导体的微型化需求。 研发背景与目标 近年来,随着器件精密度的提升,市场对尖端半导体微型化的需求日益增长,这也推动了基于极紫外(EUV)光刻技术的生产进步。然而,EUV光刻技术在生产线建设和曝光工艺方面需要大量的资本投入,且能耗与运行成本居高不下。 DNP自2003年起便致力于NIL模板的研发工作,在高精度图案化领域成功积累了丰富的技术经验。 在此项最新进展中,DNP研发了一种具有10纳米线图案的NIL模板。它可以替代部分EUV光刻工艺,从而帮助那些不具备EUV光刻生产工艺的客户生产尖端逻辑半导体。 主要特性 DNP利用自对准双重图案化(SADP)技术,成功实现了电路线宽为10纳米的新型NIL模板的研发。该技术通过对光刻设备形成的图案进行薄膜沉积和蚀刻处理,使图案密度...
Back to Newsroom