TOKYO--(BUSINESS WIRE)--Toshiba en NuFlare Technology ontvangen de 59e Okochi Memorial Grand Production Prize voor hun gezamenlijke ontwikkeling en praktische toepassing van 'electron beam' (EB) maskerschrijvers. De uitreikingsceremonie vindt op 22 maart in Tokio plaats.
LSI circuits worden vervaardigd met behulp van lithografie-instrumenten die schakelingspatronen op de wafels projecteren. De schakelingspatronen worden eerst op maskers geschreven door EB maskerschrijvers. Voorheen gebruikten de meeste EB maskerschrijvers puntstralen om patronen te schrijven. Deze moesten kleiner worden. Dit verhoogde de schrijftijd voor maskers en werd de belangrijkste uitdaging in het verbeteren van de productiviteit in het vervaardigen van maskers.
Toshiba en NFT ontwikkelden samen een praktische EB maskerschrijver met een betere schrijfnauwkeurigheid en -productiviteit.
Deze bekendmaking is officieel geldend in de originele brontaal. Vertalingen zijn slechts als leeshulp bedoeld en moeten worden vergeleken met de tekst in de brontaal welke als enige juridische geldigheid beoogt.