DNP accelera lo sviluppo del processo di produzione di fotomaschere per litografia EUV adatta per dispositivi da 2 nm

- Partecipa al progetto R&S NEDO in qualità di appaltatore Rapidus -

Image of EUV lithography with pellicle, a protective film for the photomask (Photo: Business Wire)

TOKYO--()--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) ha iniziato a sviluppare il processo di fabbricazione di una fotomaschera impiegabile con il processo di litografia ultravioletta estrema (EUV) – il processo all’avanguardia per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttori – impiegabile per dispositivi logici a semiconduttore da 2 nanometri (10-9 metri).

Inoltre DNP opererà da appaltatore fornendo la tecnologia appena sviluppata a Rapidus Corporation (Rapidus), che ha sede a Tokyo. Rapidus sta partecipando al Progetto di Ricerca e Sviluppo delle Infrastrutture potenziate per Sistemi di comunicazione e informatici post-5G avviati dalla NEDO (New Energy & Industrial Technology Development Organization).

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Referente per i media
DNP: Yusuke Kitagawa, +81-3-6735-0101
kitagawa-y3@mail.dnp.co.jp

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