KYOTO, Giappone--(BUSINESS WIRE)--SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd.:
SCREEN Semiconductor Solutions stringe una collaborazione con l’Università Nazionale di Tsing Hua a Taiwan per stabilire una linea pilota per tipografia a scrittura diretta a fascio di elettroni per l’abilitazione di chip di sicurezza con codici d’identificazione univoci
Il 20 aprile 2018 SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd. (SCREEN) ha sottoscritto un memorandum d’intesa con l’Università nazionale di Tsing Hua (National Tsing Hua University, NTHU) in una cerimonia di commemorazione del lancio del programma di litografia a scrittura diretta a fascio massiccio di elettroni per wafer al silicio da 12 pollici (MEB12).
NTHU, insieme a fornitori internazionali di software e apparecchiature per semiconduttori, istituirà un’innovativa alleanza tra università e operatori dei settore dei semiconduttori nel campo della litografia a scrittura diretta a fascio massiccio di elettroni (massively electron beam direct writing, MEBDW) per lo sviluppo di tecnologie litografiche senza maschera.
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