東芝四日市工場の第6製造棟および開発センターの起工について

第6製造棟の完成イメージ図 (画像:ビジネスワイヤ)

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四日市--()--(ビジネスワイヤ) -- 東芝は、本日、フラッシュメモリを製造する四日市工場の第6製造棟と開発センターの起工式を行いました。

第6製造棟は、3次元フラッシュメモリ「BiCS FLASH™」の生産拡大のために建設するものであり、3次元フラッシュメモリ固有の製造工程を担う予定です。四日市工場第5製造棟と同様に2期に分けて建設することとし、2018年夏に第1期分が竣工する予定です。開発センターは、第6製造棟に隣接して建設され、3次元フラッシュメモリや新規メモリの開発を行うための施設です。開発センターの完成は2017年末の予定です。

第6製造棟における具体的な設備導入・生産開始時期、生産能力、生産計画等については、市場動向を踏まえ、今後決定していきます。

当社は、市場動向に合わせた3次元フラッシュメモリの生産拡大など、メモリ事業の競争力強化に向けた取り組みを積極的に展開し、今後も市場におけるリーダシップを発揮していきます。

注 従来のシリコン平面上にフラッシュメモリ素子を並べたNAND構造ではなく、シリコン平面から垂直方向にフラッシュメモリ素子を積み上げ、素子密度を大幅に向上した構造。
* BiCS FLASHTMは、株式会社東芝の商標です。

Contacts

本資料に関するお問い合わせ先:
株式会社東芝 ストレージ&デバイスソリューション社 企画部 広報・IR担当
田中 耕一/山路 航太
Tel: 03-3457-3576
E-mail: semicon-NR-mailbox@ml.toshiba.co.jp

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