SCREEN entwickelt ein Single-Wafer-Reinigungssystem vom Typ SS-3300S Scrubber mit branchenführender Produktivität

KYOTO, Japan--()--SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd. (SCREEN SPE, Präsident: Masato Goto), ein Unternehmen der SCREEN Holdings Group (TOKYO:7735), hat die Entwicklung seines neuen Single-Wafer-Reinigungssystems vom Typ SS-3300S1 Scrubber abgeschlossen. Das SS-3300S bietet eine hochstabile Leistung bei Verarbeitungsgeschwindigkeiten von bis zu 1.000 Wafern pro Stunde2 und ermöglicht so eine branchenführende Produktivität. Der Verkauf des Systems beginnt im Dezember.

Der Markt für Rechenzentren ist in den letzten Jahren erheblich gewachsen, was auf den anhaltenden Anstieg des Datenverkehrs zurückzuführen ist, der für Aktivitäten wie Virtuelles Arbeiten, E-Learning und Video-Streaming erforderlich ist. Gleichzeitig hat die rasche Einführung von 5G-kompatiblen Smartphones und IoT-Infrastrukturen, hauptsächlich für fahrzeuginterne und industrielle Anwendungen, zu einer wachsenden Nachfrage nach hoch entwickelten Halbleitern geführt, die in diesen und anderen innovativen Märkten benötigt werden.

Als Reaktion darauf haben die Halbleiterhersteller die Miniaturisierung und Integration der Schaltungen für fortschrittliche Logik- und Speicher-ICs konsequent verbessert, was wiederum zu einer noch höheren Anforderung an die Entfernung mikroskopischer Partikel während der Halbleiterherstellungsprozesse führt. Dies hat insbesondere zu einer wachsenden Nachfrage nach Single-Wafer-Reinigungssystemen vom Typ Scrubber mit einem hohen Durchsatz geführt, die eine höhere Reinigungsleistung sowie stabilere Verarbeitungsfähigkeiten bieten können.

Basierend auf diesen Trends hat SCREEN SPE den SS-3300S entwickelt, ein Single-Wafer-Reinigungssystem vom Typ Scrubber, das branchenführende Produktivität bietet. Der SS-3300S verfügt über dieselbe weithin gelobte Verarbeitungszuverlässigkeit, mit der der SS-3200 bereits zum De-facto-Industriestandard auf diesem Gebiet geworden ist. Mittlerweile werden weltweit über 500 Systeme ausgeliefert. Der SS-3300S ermöglicht es auch, weiterhin genau die gleichen Verarbeitungsbedingungen wie für den SS-3200 zu verwenden, um die reibungslose Einführung eines neuen Systems zu gewährleisten.

Der SS-3300S ist als Branchenneuheit3 im Bereich Srysteme vom Typ Scrubber und mit einer neuen Plattform ausgestattet, die die Installation von bis zu 16 Kammern ermöglicht. Darüber hinaus verbessert ein neues duales Transportsystem das Produktionsvolumen für den Systembedarf erheblich und erlaubt dem SS-3300S, die branchenweit höchste praktische Verarbeitungskapazität von bis zu 1.000 wph zu erreichen (25 % mehr als bei herkömmlichen Modellen). In ähnlicher Weise bedeutet ein neu gestaltetes Steuerungssystem, dass das SS-3300S für IoT- und systemübergreifende Vernetzung bereit ist, wie dies für den aktuellen Übergang zu intelligenten Fabriken erforderlich ist.

1. Methode, bei der Wafer mit weichen Bürsten und reinem Wasser physikalisch gereinigt werden.
2. Spitzendurchsatz im Dauerbetrieb mit gleichem Durchflussrezept.
3. Basierend auf internen Untersuchungen von SCREEN.

Die Ausgangssprache, in der der Originaltext veröffentlicht wird, ist die offizielle und autorisierte Version. Übersetzungen werden zur besseren Verständigung mitgeliefert. Nur die Sprachversion, die im Original veröffentlicht wurde, ist rechtsgültig. Gleichen Sie deshalb Übersetzungen mit der originalen Sprachversion der Veröffentlichung ab.

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SCREEN Holdings Co., Ltd.
PR Team
Secretarial & PR Departmen
Maki Yamamoto, Atsushi Kurosaki, +81 75 414 7131
nr-info@screen.co.jp

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