TOKIO & FRANKFURT--(BUSINESS WIRE)--Die Nikon Corporation (TSE: NINOY) (“Nikon”) hat eine Reihe rechtlicher Verfahren gegen den niederländischen Hersteller von Fertigungssystemen für die Halbleiterproduktion, ASML Holding N.V. und mit ihm verbundene Unternehmen („ASML“) (NASDAQ: ASML), sowie seinen Lieferanten für optische Komponenten, Carl Zeiss SMT GmbH („Zeiss“), eingeleitet, um Verstöße gegen ihre geistigen Eigentumsrechte zu unterbinden. Wie das Unternehmen heute bekannt gab, wurden Patentverletzungsklagen in den Niederlanden, Deutschland und Japan eingereicht. Der Grund für die Klagen gegen ASML und Zeiss liegt in deren Nutzung von Nikons patentierter Technologie in Lithografiesystemen von ASML, die weltweit in der Halbleiterproduktion Verwendung finden, ohne dafür eine Genehmigung erhalten zu haben. Es werden somit Patente von Nikon verletzt.
Zuvor hatte Nikon im Dialog mit ASML und Zeiss eine Lösung des Konflikts angestrebt. Diese unter der Leitung eines äußerst erfahrenen Mediators geführten Gespräche haben jedoch zu keiner Einigung geführt. Die fortwährende, unbefugte Verwendung patentierter Nikon-Technologie durch ASML und Zeiss lässt Nikon somit keine Alternative, als seine Rechte gerichtlich durchzusetzen.
Nikon hat beim Distriktgericht in Den Haag insgesamt elf Patentverletzungsklagen gegen ASML eingereicht. Darüber hinaus wurden beim Distriktgericht in Tokio Patentverletzungsklagen gegen ASML und beim Landgericht Mannheim gegen Zeiss erhoben. In Oberkochen im Bezirk des Landgerichts Mannheim produziert Zeiss optische Komponenten, die in Lithografiesystemen von ASML, die Gegenstand der Klagen sind, verbaut werden.
ASML hat veröffentlicht, dass das Unternehmen im Geschäftsjahr 2016 76,3 Prozent des Umsatzes, insgesamt EUR 3,5 Milliarden, mit Immersionslithografiesystemen erwirtschaftet hat. Nikon ist der Ansicht, dass diese Systeme von Nikon patentierte Technologie verwenden. Mit der Klage beantragt Nikon den Erlass von Unterlassungsverfügungen, die ASML und Zeiss den Vertrieb dieser Produkte untersagen, sowie Schadensersatz.
Die von Nikon in den frühen 2000er-Jahren als Pionier entwickelte Immersionslithografie ist eine Technologie, die von essenzieller Bedeutung für die Herstellung von hochmodernen Halbleitern ist, wie sie in Smartphones, Computern und unzähligen anderen Produkten Verwendung finden. ASML und Nikon sind weltweit die einzigen Hersteller von Immersionslithografie-Systemen.
„Durch substanzielle und anhaltende Investitionen in Forschung und Entwicklung hat Nikon fortschrittliche Lithografietechnologien wie die Immersionslithografie entwickelt, die die Halbleiterindustrie revolutioniert haben“, sagte Kazuo Ushida, President und Representative Director von Nikon. „Halbleiter sind Kernkomponenten in elektronischen Geräten, auf die sich Verbraucher, Unternehmen und die gesamte Weltwirtschaft verlassen. Auf die bedeutende Rolle, die unsere Technologie in der Entwicklung der globalen Informationsgesellschaft einnimmt, sind wir stolz. Wir sind fest davon überzeugt, dass ASML sein Lithografiegeschäft ausbauen konnte, weil das Unternehmen unsere patentierten, fortschrittlichsten Technologien, zu denen auch die Immersionslithografie zählt, unbefugt verwendet. Der Respekt vor geistigem Eigentum bildet das Fundament für fairen und gesunden Wettbewerb und ist eine Voraussetzung zur Förderung von Innovationen, die hochmoderne Produkte und Dienstleistungen hervorbringen, von denen unsere gesamte Gesellschaft profitiert. Aus diesem Grund haben wir uns dazu entschlossen, jetzt den Rechtsweg zu beschreiten.“
Nikon sah sich bereits in der Vergangenheit gezwungen, juristische Schritte gegen ASML und Zeiss im Zusammenhang mit Verstößen gegen geistige Eigentumsrechte von Nikon einzuleiten. Zurückliegende Verfahren in den USA endeten in einem Vergleich zugunsten von Nikon. Heute, dreizehn Jahre später, wird Nikon seine Ansprüche erneut entschlossen verfolgen und alle möglichen Rechtsmittel ausschöpfen, um die unbefugte Verwendung seines geistigen Eigentums durch ASML und Zeiss zu unterbinden. Dazu zählen die Erwirkung von Unterlassungsverfügungen und Schadensersatzforderungen.
Hintergrund zur Auseinandersetzung zwischen Nikon, ASML und Zeiss:
- In den 1990er Jahren war Nikon der weltweit führende Hersteller von Lithografiesystemen zur Produktion von Halbleitern.
- Im Dezember 2001 reichte Nikon in den USA Klagen gegen ASML ein, in denen es ASML die unbefugte Verwendung der von Nikon entwickelten und patentierten Technologie vorwarf.
- Im Jahr 2004 wurden ein umfassender Vergleich sowie Kreuzlizenzierungsvereinbarungen mit ASML und Zeiss erzielt. Im Rahmen der Vereinbarung wurden einige ältere Patente dauerhaft und später angemeldete Patente für einen begrenzten Zeitraum bis zum 31. Dezember 2009 lizensiert.
- In den Lizenzvereinbarungen verpflichteten sich die Parteien zudem, während einer anschließenden Stillhaltephase vom 1. Januar 2010 bis zum 31. Dezember 2014 keine Patentverletzungsansprüche geltend zu machen.
- Im Rahmen der Kreuzlizenzierungsvereinbarungen ist es Nikon jedoch nun möglich, Schadensersatz für Patentverletzungen durch ASML und Zeiss zu fordern, die während der Stillhaltephase aufgetreten sind.
- Während der Stillhaltephase führte ASML Produkte in den Markt ein, die den Klageschriften von Nikon zufolge Patentrechte von Nikon verletzen.
- Nachdem die im Rahmen der Kreuzlizenzvereinbarungen gewährten Lizenzen am 31. Dezember 2009 ausliefen, hat Nikon das Gespräch mit ASML und Zeiss gesucht, um eine neue Lizenzvereinbarung zu verhandeln. Allerdings haben beide Unternehmen keine Bereitschaft gezeigt, über Bedingungen zu verhandeln, die den wirtschaftlichen Wert von Nikons patentierter Technologie reflektieren. Da Nikon davon ausgeht, dass die Patentverletzungen unverändert andauern, leitet Nikon jetzt erneut rechtliche Schritte gegen ASML und Zeiss ein, um seine Patente durchzusetzen.
Hintergrund zu den juristischen Verfahren in den Niederlanden, Deutschland und Japan
- Vor dem Distriktgericht in Den Haag in den Niederlanden, am Sitz der Montage der patentverletzenden Lithografiesysteme von ASML, macht Nikon die folgenden [11] europäischen Patente geltend: 1.598.855; 1.652.003; 1.881.521; 2.157.480; 2.264.531; 2.624.282; 2.717.098; 2.752.714; 2.765.595; 2.808.737; und 2.937.734.
- Vor dem Landgericht in Mannheim, am Sitz der Herstellung patentverletzender optischer Komponenten von Zeiss, die in ASML Lithografiesystemen verbaut werden, macht Nikon die folgenden beiden europäischen Patente geltend: 1.881.521 und 2.157.480.
- Vor dem Distriktgericht in Tokio, am Hauptsitz von Nikon, macht das Unternehmen zwei japanische Patente mit den Nummern 4.604.452 und 5.708.546 geltend.
Über die Nikon Corporation
Die Nikon Corporation zählt seit ihrer Gründung im Jahr 1917 zu den weltweiten Pionieren optischer Technologien. Heute bietet das Unternehmen eine große Bandbreite an Produkten mit modernster Technologie, von Consumer-Optics wie beispielsweise Digitalkameras, kamerabezogene Produkte und Ferngläser bis hin zu industrieller Präzisionsausrüstung, wozu auch Halbleiter- und FPD-Lithografie-Systeme, Mikroskope, Messinstrumente und medizinische Geräte zählen. Das Precision Equipment-Geschäft von Nikon bedient die heutige elektronikfokussierte Gesellschaft mit der Entwicklung und Produktion von Halbleiterlithografiesystemen, die in der Herstellung von Halbleitern Anwendung finden. Zudem liefert Nikon FPD-Lithografiesysteme zur Herstellung von Flüssigkristall- und OLED-Displays.
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