Gigaphoton在EUV控制光源領域採用「磁場碎片清除技術」的專利,成功延長了聚光鏡的使用壽命

用於量產工廠的EUV微影控制光源領域所採用新技術「磁場碎片清除技術」實際驗證具有延長聚光鏡使用壽命的效果,突破瓶頸邁出了一大步

栃木縣小山市--()--(美國商業資訊)-- 微影光源的主要廠商Gigaphoton公司發布消息,在控制光源註)領域,該公司最新自主開發的磁場清除碎片(除去殘餘物)技術可以有效延長聚光鏡的使用壽命,這項成果已得到了實際驗證。這裡所說的控制光源設計套用於最先進半導體量產線,正是運用了國立研究開發法人新能源產業技術綜合開發機構(NEDO)的資助計畫的成果,目前正在持續開發中的EUV掃描器用雷射產生的電漿(LPP)光源。

在EUV光源裝置上面,聚光鏡是不可或缺的,它的作用是將高亮度的EUV電漿產生的光集聚起來並傳送給曝光裝置。但在高功率運轉的情況下,這種聚光鏡會被發光時的錫靶污染。因此,聚光鏡的使用壽命非常短,這嚴重地妨礙了實際應用。Gigaphoton此次在100W層級的運轉條件下、在量產工廠專用的EUV微影用控制光源上面採用碎片清除技術進行了實驗,證實了延長聚光鏡使用壽命的效果(反射率下降率:低於0.5%/10億脈衝)。該資料顯示,以往在連續運轉條件下使用壽命最多只有數周的聚光鏡使用壽命可以延長。其中,碎片清除技術是一種磁場技術,該公司已經取得該項技術的專利。

Gigaphoton董事長、副總經理兼技術長溝口計先生說:「在設計用於最先進的半導體量產線的控制光源領域,磁場碎片清除技術的有效性已獲得實際驗證,這顯示,已經突破重大的技術瓶頸,距離將EUV光源推向市場已經越來越近了。我們今後仍將透過EUV光源的開發為半導體產業的發展和物聯網社會的實現做出貢獻。」

註)Gigaphoton按照EUV微影量產工廠專用規格設計的光源,別名「高功率示範裝置」。

*本技術的詳細內容將在2月26日(美國時間)到3月2日於美國加州聖荷西市舉辦的先進曝光國際論壇(SPIE Advanced Lithography 2017)上發布。
http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography

Gigaphoton公司簡介

Gigaphoton成立於2000年,是一家雷射供應商,自成立以來不斷為全球的半導體生產廠商提供有價值的解決方案。其中,LPP EUV解決方案是Gigaphoton公司開發的一項創新型技術,已經取得專利,為性價比及生產性優異的量產型EUV曝光機的實現充當了開路先鋒。Gigaphoton時刻以客戶為中心,從產品研發到生產、銷售及維護,為用戶提供業界最高水準的支援。關於詳細介紹請造訪本公司的網站:www.gigaphoton.com

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Gigaphoton株式會社
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聯絡人: 松井章記
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電子信箱: web_info@gigaphoton.com

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