Gigaphoton发布最新型ArF准分子激光器GT65A

同时实现最先进的液浸曝光处理的细微化支持和减少对环境的影响,计划于2017年内上市

栃木县小山市--()--(美国商业资讯)--半导体光刻光源的主要生产厂商Gigaphoton公司(总公司地址:栃木县小山市,董事长兼总经理:都丸仁,网址:www.gigaphoton.com)发布了一种新产品——最先进的液浸曝光(光刻)装置专用ArF准分子激光器“GT65A”。该产品计划于2017年内上市。

GT65A对Gigaphoton的ArF平台的特征——卓越的频谱控制技术进行了进一步升级换代,支持1X nm(纳米)以下的细微化工艺,并且依照标准配置了减少对环境影响的技术以及该公司的氖气回收设备——“hTGM”,此设备在任何运转条件下均可进行无氦运转。

在GT65A的频谱控制方面依照标准配置了两项最新技术。其中之一就是“eMPL Solid”。与以往的机型相比,eMPL Solid的频谱性能的稳定性提高了4倍,每个曝光区域均以±5fm(飞米)的高水平实现了频谱宽度(E95)的稳定性,为CD均匀性的提高做出了贡献。另外一种最新技术“hMPL”,它可以将频谱宽度控制在450fm~200fm的范围内,依照工艺流程对频谱宽度进行了优化,为工艺窗口的最大化做出了贡献。

另外,GT65A依照标准配置的无氦及hTGM技术是采用Gigaphoton的EcoPhotonTM程序开发的,不仅能够减少对环境的影响,还可以大幅减少将来氦气和氖气的短缺及价格风险,为客户的可持续发展做出贡献。

Gigaphoton董事长兼总经理都丸仁说:“本公司的新产品GT65A是Gigaphoton为不断向细微化发起挑战的半导体设备行业提供的解决方案之一,同时也是本公司成立以来对业界不变的承诺以及对曝光机生产厂商所做贡献的证明。我们今后仍将一如既往地持续对提高曝光性能的专用技术进行投资。”

关于Gigaphoton以GT65A为代表的ArF准分子激光器,计划在自2月26日(美国时间)起到3月2日于美国加利福尼亚州圣何塞市举办的先进曝光国际论坛(SPIE Advanced Lithography 2017)上发布。
http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography

查阅以往与无氦相关的新闻稿请点击此链接

查阅以往与hTGM相关的新闻稿请点击此链接

Gigaphoton公司简介
Gigaphoton成立于2000年,是一家激光供应商,自成立以来不断为全球的半导体生产厂商提供有价值的解决方案。Gigaphoton时刻以客户为中心,从产品研发到生产、销售及维护,为用户提供业界最高水准的支持。更为详细的介绍请您访问:www.gigaphoton.com

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新闻媒体专用联系窗口:
Gigaphoton株式会社
经营企划部
松井章记
电话:+81-285-37-6931
邮箱:web_info@gigaphoton.com

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