Gigaphoton發布最新型ArF準分子雷射器GT65A

同時實現最先進的液浸曝光處理的細微化支援和減少對環境的影響,計劃於2017年內上市

栃木縣小山市--()--(美國商業資訊)--半導體微影光源的主要生產廠商Gigaphoton公司(總公司地址:栃木縣小山市,董事長兼總經理:都丸仁,網址:www.gigaphoton.com)發布了一種新產品——最先進的液浸曝光(微影)裝置專用ArF準分子雷射器GT65A。該產品計劃於2017年內上市。

GT65A對Gigaphoton的ArF平臺的特徵——卓越的頻譜控制技術進行了進一步升級換代,支援1X nm(奈米)以下的細微化製程,並且依照標準配置了減少對環境影響的技術在此設備在任何運轉條件下均可進行無氦運轉以及可對應連接該公司的氖氣回收設備hTGM。

在GT65A的頻譜控制方面依照標準配置了兩項最新技術。其中之一就是eMPL Solid。與以往的機型相比,eMPL Solid的頻譜性能的穩定性提高了4倍,每個曝光區域均以±5fm(費米)的高水準實現了頻譜寬度(E95)的穩定性,為CD均勻性的提高做出了貢獻。另外一種最新技術hMPL,它可以將頻譜寬度控制在450fm~200fm的範圍內,依照製程對頻譜寬度進行了最佳化,為製程時段的最大化做出了貢獻。

另外,GT65A依照標準配置的無氦及對應hTGM技術是採用Gigaphoton的EcoPhotonTM程式開發的,不僅能夠減少對環境的影響,還可以大幅減少將來氦氣和氖氣的短缺及價格風險,為客戶的永續發展做出貢獻。

Gigaphoton董事長兼總經理都丸仁說:「本公司的新產品GT65A是Gigaphoton為不斷向細微化發起挑戰的半導體設備產業提供的解決方案之一,同時也是本公司成立以來對業界不變的承諾以及對曝光機生產廠商所做貢獻的證明。我們今後仍將一如既往地持續對提高曝光性能的專用技術進行投資。」

關於Gigaphoton以GT65A為代表的ArF準分子雷射器,計劃在自2月26日(美國時間)起到3月2日於美國加州聖荷西市舉辦的先進曝光國際論壇(SPIE Advanced Lithography 2017)上發布。
http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography

查閱以往與無氦相關的新聞稿請按此連結

查閱以往與hTGM相關的新聞稿請按此連結

Gigaphoton公司簡介
Gigaphoton成立於2000年,是一家雷射供應商,自成立以來不斷為全球的半導體生產廠商提供有價值的解決方案。Gigaphoton時刻以客戶導向為中心,從產品研發到生產、銷售及維護,為用戶提供業界最高水準的支援。如需詳細介紹,請造訪:www.gigaphoton.com

免責聲明:本公告之原文版本乃官方授權版本。譯文僅供方便瞭解之用,煩請參照原文,原文版本乃唯一具法律效力之版本。

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新聞媒體專用聯絡窗口:
Gigaphoton株式會社
經營企劃部
松井章記
電話:+81-285-37-6931
信箱:web_info@gigaphoton.com

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