SCREEN Semiconductor Solutions与Leti将合作范围扩大至涵盖激光退火技术

日本京都和法国格勒诺布尔--()--(美国商业资讯)--SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd. (SCREEN)和CEA Tech旗下的研究机构Leti今天宣布双方已加强合作,将在Leti的基地安装纳秒级紫外线(UV)激光退火LT-3100系统,该系统将由总部位于法国的SCREEN旗下子公司Laser Systems and Solutions of Europe (LASSE)提供。

Leti首席执行官Marie Semeria表示:“将SCREEN的纳秒级紫外线激光退火刀具引入到Leti先进的工业化前设备基础设施中,将为现场部署当前和未来技术带来新的创新机会。随着SOI、CoolCubeTM和纳米线技术的发展,我们在开发新材料性能和超薄膜改性且将热影响降至最低方面正面临日益严峻的挑战。利用LT-3100系统将催生带来技术突破的解决方案,并最终带动行业开发实用型实物模型。”

SCREEN Semiconductor Solutions总裁Tadahiro Suhara表示:“继长期与Leti保持成功的共同开发合作之后,我们非常高兴能有此机会为Leti的生态系统带来我们的激光技术,以满足‘超越摩尔定律’(More than Moore)、物联网和未来创新技术要求。除了开展合作活动之外,我们还将利用Leti的先进基础设施来运营我们的LASSE欧洲演示实验室,从而赋予我们的客户前所未有的演示基础设施能力。我们期望展现我们的纳秒级紫外线激光设备技术和资源带来的创新价值,从而在由Leti所支持的多个研发领域推进半导体工艺开发。”

激光刀具有望于2017年上半年全面投产,并将支持多种晶圆尺寸要求,从而满足Leti实验室的不同需求。

关于Leti(法国)

作为隶属于CEA Tech的三大先进研究机构之一,Leti是基础研究与改善全球人民生活质量的微技术和纳米技术生产之间的桥梁。它致力于打造创新产品,并将其运用于工业。在其2,800项专利组合的支持下,Leti与大型工业企业、中小型企业(SME)及初创公司合作,量身打造可增强其竞争水平的先进解决方案。它已推动59个初创公司。其面积达8,500m²的新一代清洁室空间可进行微米和纳米解决方案的200mm和300mm晶片处理,适用于航空、智能设备等应用。Leti总部位于法国格勒诺布尔,拥有逾1,900名员工,在加州硅谷和东京设有办事处。CEA Tech是法国可再生能源与原子能委员会(CEA)旗下的技术研究分会,也是创新研发、防务与安全、核能、工业技术研究和基础科学领域的主要参与者,而且被汤森路透(Thomson Reuters)认为是全球最具创新力的研究组织。CEA Tech利用独特的创新驱动文化和无与伦比的专业知识,开发并传播工业新技术,从而助力打造高端产品和提供竞争优势。在www.leti.fr和@CEA_Leti关注我们。

关于SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd.

SCREEN Semiconductor Solutions为 SCREEN Holdings集团旗下子公司,该公司从其前身Dainippon Screen继承了半导体设备业务。SCREEN是一家专业制造商,业务遍及晶圆清洗设备、光刻设备和热处理等各个领域,是半导体制造业全球前十大设备供应商之一。

更多详情,请访问www.screen.co.jp/eng/spe

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Mahoney & Lyle
Sarah-Lyle Dampoux, +33 6 74 93 23 47
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SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd.
Yuichi Sugiyama, +81-75-417-2527
speinfo@screen.co.jp

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