Migliorate le caratteristiche di protezione contro le cariche elettrostatiche del dispositivo ESD di Toshiba con tecnologia di processo da 0,13 μm per i semiconduttori analogici di potenza

Schematic cross-section of studied structure (Graphic: Business Wire)

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TOKYO--()--Toshiba Corporation (TOKYO:6502) ha sviluppato un dispositivo per la protezione contro le cariche elettrostatiche (Electrostatic Discharge, ESD) per l’impiego nei semiconduttori analogici di potenza con tecnologia di processo da 0,13 μm, in grado di ottimizzare la struttura dei transistor e migliorare significativamente le caratteristiche ESD. La protezione ESD risulta fino a quattro volte più efficace, con una deviazione standard pari solo a 1/12 dei dispositivi con struttura convenzionale. L’analisi delle simulazioni in 3D ha consentito inoltre a Toshiba di identificare un meccanismo per l’ottimizzazione della struttura dei transistor al fine di potenziare l’efficacia della protezione ESD.

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Contacts

Toshiba Corporation
Storage & Electronic Devices Solutions Company
Koichi Tanaka / Kota Yamaji, +81-3-3457-3576
Communication IR Promotion Group
Business Planning Division
semicon-NR-mailbox@ml.toshiba.co.jp

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