東芝:「nano tech 2013 第12回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」への出展について

nano tech 2013

東京--()--(ビジネスワイヤ) -- 東芝は、1月30日から2月1日までの3日間、東京ビッグサイトで開催されるナノテクノロジーに関する世界最大の展示会「nano tech 2013 第12回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」に出展します。http://www.nanotechexpo.jp/

当社は、今後の成長事業としてスマートコミュニティ事業をグローバルに展開しています。今回の展示会において当社は、東芝グループが提案するスマートコミュニティを実現するための2つのコンセプトである「トータル・ストレージ・イノベーション」、「トータル・エネルギー・イノベーション」に貢献する次世代のナノテクノロジーを展示します。

展示では、「トータル・ストレージ・イノベーション」「先端基盤技術」「トータル・エネルギー・イノベーション」の3つのコーナーに分けて、14テーマの展示を行い、東芝グループの持つ幅広いナノテクノロジーを紹介します。

展示内容

1. トータル・ストレージ・イノベーション

    (1)   NAND型フラッシュメモリ
最先端の19nmNAND微細化プロセス技術およびハイブリッドドライブ(NAND型フラッシュメモリ搭載HDD)のスピード比較デモンストレーションを実施
(2) HDD用Trilayer(トライレイヤー)構造ヘッド
大容量化に向けたHDD再生ヘッドのナノオーダーの構造・磁性膜材料設計技術
(3) 最先端マスク描画技術
次世代半導体技術を支える最先端(hp22nmデバイス)の電子ビームマスク描画技術
(4) 自己組織化リソグラフィ技術
塗布・アニール・現像のみでパターニング可能な10nmノード世代半導体向け低コスト微細パターン形成技術
(5) ナノスケール先端分析技術
半導体製品の信頼性を支える原子レベルのデバイス構造解析技術
(6) グラフェン複合透明導電フィルム
光電子デバイスの軽量・柔軟化に向けた透明導電フィルムを実現するための、グラフェン/銀ナノワイヤ/ポリマー積層膜形成技術
 

2. 先端基盤技術

    (1)   高熱伝導性窒化物セラミックス(AlN基板、SiN基板)
電子部品・モジュールの省エネ・小型・高性能化を実現する高熱伝導性・高絶縁特性・高強度セラミックス基板(結晶粒界制御)
(2) ナノ構造制御発光材料(S-サイアイロン蛍光体/GOSシンチレータ)
LED照明やX線検査装置など、用途に応じた発光の制御を可能にする蛍光体材料技術
(3) 新機能タングステン材料(光触媒スラリー/トリアフリー電極)
光触媒や熱電子電極などの新/高機能の発現を可能にするタングステン材料技術
 

3. トータル・エネルギー・イノベーション

    (1)   有機薄膜太陽電池
室内光に適した有機薄膜太陽電池で世界最高レベルの変換効率(5 cm角サブモジュール)を実現する有機薄膜のナノ構造制御技術
(2) Dy(ジスプロシウム)フリーのモータ用磁石
低資源リスクで高効率なモータの実現に向けた、磁石材料のナノスケール組成制御技術
(3) 車載用/定置用二次電池SCiBTM
高入出力、低抵抗、長寿命な高性能二次電池を実現するナノ複合LTO電極技術、および応用製品
(4) 気象レーダ向け超伝導フィルタ
ゲリラ豪雨の観測が可能な気象レーダ向け超伝導フィルタの界面ナノ領域制御技術
(5) 次世代照明(OLED照明、LD励起光源)
生活に溶け込むあかりを実現するOLED照明のナノオーダーの有機薄膜構造制御技術およびLD励起光源

Contacts

問い合わせ先:
東芝セミコンダクター&ストレージ社
玄地恵/野口邦男
Tel:03-3457-3367
e-mail: semicon-NR-mailbox@ml.toshiba.co.jp

Release Summary

東芝は、1月30日から2月1日までの3日間、東京ビッグサイトで開催されるナノテクノロジーに関する世界最大の展示会「nano tech 2013 第12回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」に出展します。

Sharing

Contacts

問い合わせ先:
東芝セミコンダクター&ストレージ社
玄地恵/野口邦男
Tel:03-3457-3367
e-mail: semicon-NR-mailbox@ml.toshiba.co.jp