Toshiba ontwikkelt kosteneffectieve 32nm CMOS Platformtechnologie door geavanceeerde enkele lithografie

TOKYO--(BUSINESS WIRE)--Toshiba Corporation (TOKYO:6502) lanceert vandaag een kosteneffectieve platformtechnologie (32nm CMOS) met een grotere dichtheid en verbeterde prestaties. Toch zijn de kosten per functie gehalveerd vergeleken bij de 45nm-technologie. Het platform gebruikt geavanceeerde enkele lithografie en andere zeer gespecialiseerde technologieën, met een 0,124μm2 SRAM-cel en 3.650 gate/mm2. Dit is de kleinste SRAM-cel binnen de 32nm-generatie ooit. De platformtechnologie werd samen met NEC Electronics Corporation ontwikkeld.

Disclaimer: Deze bekendmaking is officieel geldend in de originele brontaal. Vertalingen zijn slechts als leeshulp bedoeld en moeten worden vergeleken met de tekst in de brontaal welke als enige, juridische geldigheid beoogt.